WEDECO in der Halbleiterindustrie

Bei der Produktion von Halbleiterelementen spielt die Beschaffenheit des zur Herstellung benötigten Reinstwassers eine zentrale Rolle. Von entscheidender Bedeutung ist die mikrobiologische und die organische Reinhaltung des Wassers. Mit WEDECO UV- und Ozon-Anlagen stehen Technologien zur Verfügung, die ihre Wirkung direkt im Medium entfalten und in Hinblick auf den TOC-Abbau (Total Organic Carbon) und die Desinfektion höchste Anforderungen erfüllen.

Die Halbleiterindustrie benötigt Reinstwasser-Qualitäten mit extrem niedrigen TOC-Werten (Total Organic Carbon) von 1 ppb oder sogar 0,5 ppb TOC. Nur UV-Strahlung im Spektralbereich von 185 nm ist in der Lage, diesen niedrigen Level zu erreichen, ohne dem Reinstwasser andere Fremdstoffe zuführen zu müssen. 

UV ionisiert organische Verdingungen

Hochenergetische UV-Strahler lösen einen Photooxidations-Prozess aus und erzeugen damit OH-Radikale. Diese Radiale ionisieren organischen Verbindungen im Wasser, welche sich nachfolgend einfach mittels Ionentauscher entfernen lassen.

Ozon für die Desinfektion und Oxidation

Ozon eignet sich für die Desinfektion und Oxidation von Reinstwasser-Kreisläufen, insbesondere vor der Entgasungsstufe in Kreislaufsystemen.

Neben standardisierten UV- und Ozonanlagen entwickelt Xylem in enger Abstimmung mit Ihnen maßgeschneiderte Lösungen für Ihren ganz speziellen Einsatz.

Passendes WEDECO UV-System

Passendes WEDECO Ozon-System